PECVD石墨烯生长炉专业生产厂家
设备介绍： 本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种cvd称为等离子体增强化学气相沉积(pecvd)。
产品简介：此款设备配有plasma实现等离子增强，滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。并可选配气氛微调装置，可准确的控制反应腔体内部的气体压力，带刻度的调节阀对于做低压cvd非常简单实用，工艺重复性好，对于石墨烯生长工艺非常合适，也同样适用于要求快速升降温的cvd实验。
主要组成系统及特点：
本设备主要由管式加热炉体，真空系统，质子流量供气系统，射频等离子源，石英反应腔室等部件组成。
主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、pecvd比普通cvd进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、pecvd比普通cvd进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：siox, sinx, sioxny和无定型硅(a-si:h)等。
石英管：根据需求选择不同直径的石英管作为反应室。有φ40，φ60，φ80，φ100，φ120，φ150等规格可选。）
质量供气系统技术参数：（根据需求选择多路质子流量供气系统。有两路gq-2z，三路gq-2z，四路gq-2z，五路gq-2z或更多路供选择。）
真空系统技术参数（根据需求选择不同真空效果的真空系统。有dzk10-1（极限真空0.1pa），gzk10-3（极限真空0.001pa），以及进口高真空机组（极限真空0.0001pa）供选择。）
射频电源（根据需求选择强度不同的射频电源。有dlz300（300w），dlz500（500w）或更大功率的射频电源供选择）
详情请来电咨询
价格说明
一般情况下：划线价格：划线的价格可能是商品的销售指导价或该商品的曾经展示过的销售价等，并非原价，仅供参考。
未划线价格：未划线的价格是商品在阿里巴巴中国站上的销售标价，具体的成交价格根据商品参加活动，或因用户使用优惠券等发生变化，最终以订单结算页价格为准。活动预热状态下：划线价格：划线的价格是商品在目前活动预热状态下的销售标价，并非原价，具体的成交价可能因用户使用优惠券等发生变化，最终以订单结算页价格为准。
未划线价格：未划线的价格可能是商品即将参加活动的活动价，仅供参考，具体活动时的成交价可能因用户使用优惠券等发生变化，最终以活动是订单结算页价格为准。*注：前述说明仅当出现价格比较时有效。若商家单独对划线价格进行说明的，以商家的表述为准。
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