光刻胶的重要性
在北京化工大学理学院院长聂俊眼里,我国虽然已成为世界半导体生产大国,但面板产业整体产业链仍较为落后。目前,上游电子化学品(lcd用光刻胶)几乎全部依赖进口,必须加快面板产业关键核心材料基础研究与产业化进程,才能支撑我国微电子产业未来发展及国际“地位”的确立。
“假如我们把光刻机比作一把菜刀,那么光刻胶就好比是要切割的菜,没有高质量的菜,即使有了锋利的菜刀,也无法做出一道佳肴。”日前,江苏博砚电子科技有限公司技术部章宇轩在接受科技日报记者采访时说。
光刻胶趋势
半导体光刻胶领域全球市场规模趋于稳定, 2017年全球市场约13.5亿美元;国内市场约20.2亿元,近5年复合增速达12%。受全球半导体市场复苏和国内承接产业转移,预计全球光刻胶市场将保持稳定增速,国内市占率稳步抬升。
光刻胶生产、检测、评价的设备价格昂贵,需要一定前期资本投入;光刻胶企业通常运营成本较高,下游厂商认证采购时间较长,进口光刻胶 厂家,为在设备、研发和技术服务上取得竞争优势,需要足够的中后期资金支持。企业持续发展也需投入较大的资金,光刻胶行业在资金上存在较高的壁垒,光刻胶,国外光刻胶厂商相对于国内厂商,其公司规模更大,具有资金和技术优势。
总体上,光刻胶行业得到国家层面上的政策支持。《国家集成电路产业发展推进纲要》,提出“研发光刻机、刻蚀机、离子注入机等关键设备,开发光刻胶、大尺英寸硅片等关键材料”;国家重点支持的高新技术领域(2015)中提到“高分辨率光刻胶及配套化学品作为精细化学品重要组成部分,进口光刻胶 正胶,是重点发展的新材料技术”;光刻技术(包括光刻胶)是《中国制造 2025》重点领域。
四、对准(alignment)
光刻对准技术是曝光前一个重要步骤作为光刻的三大核心技术之一,进口光刻胶 生产厂家,一般要求对准精度为最细线宽尺寸的 1/7---1/10。随着光刻分辨力的提高 ,对准精度要求也越来越高 ,例如针对 45am线宽尺寸 ,对准精度要求在5am 左右。
受光刻分辨力提高的推动 ,对准技术也经历 迅速而多样的发展 。从对准原理上及标记结 构分类 ,对准技术从早期的投影光刻中的几何成像对准方式 ,包括视频图像对准、双目显微镜对准等,一直到后来的波带片对准方式 、干涉强度对准 、激光外差干涉以及莫尔条纹对准方式 。从对准信号上分 ,主要包括标记的显微图像对准 、基于光强信息的对准和基于相位信息对准。
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